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光刻工艺化学品
光刻工艺化学品工艺介绍

光刻工艺为半导体制造中非常重要的一道程序,目的是用来定义图案;结合了:光刻胶涂布,软烤,洗边,曝光,显影等程序,这几项程序都会交互影响,进而决定整个工艺的好坏与稳定性。除了设备上的因素,就是使用化学品的问题;日益和提供客户一系列在每一个程序使用的化学品,除了化学品本身的质量保证,同时更提供技术与异常处理的咨询。在光刻工艺的化学品上,符合客户工艺改善与成本需求为我司的一贯目标。